硅钢氧化镁原料核心性能要求

    一、核心性能要求

    硅钢氧化镁与普通工业氧化镁的*大区别在于对纯度和微观性能的严苛要求,具体包括:

    高纯度:氧化镁含量需≥98%,甚至达到 99% 以上,杂质(如铁、钙、硅、铝等)含量需*低(通常各杂质元素≤0.1%)。杂质会导致硅钢片绝缘涂层出现缺陷,降低绝缘性能和耐高温性。

    合适的粒度与比表面积:粒度通常控制在数微米至数十微米,比表面积需匹配涂层工艺(一般为 5-20 m²/g)。粒度不均会导致涂层厚薄不一,比表面积过小则反应活性不足,影响与硅钢表面的结合。

    化学活性:需具备适中的活性(通过 “柠檬酸活性值” 等指标衡量),确保在硅钢退火过程中能与硅钢表面的硅元素充分反应,生成致密的硅酸镁绝缘膜。活性过高易导致涂层过厚、开裂;活性过低则反应不充分,涂层附着力差。

    低水化率:在储存和加工过程中,需不易吸潮水化(生成氢氧化镁),否则会导致涂层出现气泡、针孔等缺陷,影响绝缘效果。

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