20年 AXCELIS GSD200 离子注入机通讯控制板维修 电路板维修
常用的生产型离子注入机主要有三种类型：低能大束流注入机、高能注入机和中束流注入机，如下所示：
低能大束流离子注入机，0.2keV~100keV，*浅结、源漏注入、多晶硅栅注入等
高能离子注入机，~MEV，深埋层等
中束流离子注入机，几百keV，栅阈值调整、轻掺杂漏区、SIMOX、Cut穿透阻挡层等
低能大束流离子注入机：大束流的注入机的束流可以达到几毫安甚至几十毫安。低于100keV，由于器件的特征尺寸不断缩小，需要更低能的注入，以形成浅结或*浅结，有的大束流的注入机的低能可以达到0.2keV。
高能离子注入机：高能注入机可高达几MeV。
中束流离子注入机：中束流注入机的注入在几百keV范围内。
离子注入机由离子源、离子引入和质量分析器、加速管、扫描系统和工艺腔组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子，决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子，当外来电子**原子的电离电位时，通过碰撞使元素发生电离。碰撞后除了原始电子外，还出现正电子和二次电子。正离子进入质量分析器选出需要的离子，再经过加速器，由四级透镜聚焦后进入靶室，进行离子注入。
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